快速退火炉的结构和用途

更新时间：2023-01-18 点击次数：534次

　　快速退火炉是采用电磁感应加热技术，通过大功率高频交流电源使被加热工件在较短的时间内达到所需温度的一种新型热源。主要用于快速热处理、热氧化处理、高温退火的设备。

　　它具有升温快、节能、无污染等特点。

　　该设备广泛用于各种金属材料的淬火、退火等热处理工艺中，

　　如：轴承钢球化退火热处理；不锈钢制品的退火热处理；齿轮类工件的表面淬火硬化；弹簧的热变形加工等等。

　　快速退火炉（芯片热处理设备）广泛应用在IC晶圆、LED晶圆、MEMS、化合物半导体和功率器件等多种芯片产品的生产，和欧姆接触快速合金、离子注入退火、氧化物生长、消除应力和致密化等工艺当中，通过快速热处理以改善晶体结构和光电性能，技术指标高、工艺复杂、专用性强。

　　快速退火炉主要由真空腔室、加热室、进气系统、真空系统、温度控制系统、气冷系统、水冷系统等几部分组成。

　　真空腔室：真空腔室是快速退火炉的工作空间，晶圆在这里进行快速热处理。

　　加热室：加热室以多个红外灯管为加热元件，以耐高温合金为框架、高纯石英为主体。

　　进气系统：真空腔室尾部有进气孔，精确控制的进气量用来满足一些特殊工艺的气体需求。

　　真空系统：在真空泵和真空腔室之间装有高真空电磁阀，可以有效确保腔室真空度，同时避免气体倒灌污染腔室内的被处理工件。

　　温度控制系统：温度控制系统由温度传感器、温度控制器、电力调整器、可编程控制器、PC及各种传感器等组成。

　　气冷系统：真空腔室的冷却是通过进气系统向腔室内充入惰性气体，来加速冷却被热处理的工件，满足工艺使用要求。

　　水冷系统：水冷系统主要包括真空腔室、加热室、各部位密封圈的冷却用水。